PHI X-tool

离子产生和表面灵敏度

• 一束高能初级离子轰击样品表面激发出原子和分子碎片 
• 只一小部分激发出的粒子以离子的状态离开表面，被质量分析器探测出来
• 对于无机材料, 原子离子百分含量> 10%
• 对于有机材料，原子和分子离子碎片百分含量可以从 .001% 到 1%
• 只从表面2个分子层激发出的粒子可以以离子态离开表面

TOF-SIMS 主要功能

• 采集离子质谱图用于表面元素（原子离子），同位素，分子化学结构（通过分子离子碎片）的表征
• 点或面扫描（2D成像）得到成分分布像，观察不同成分在同一条线或面的分布情况
• 深度剖析和3D成像可以分析不同的膜层结构和成分深度分布信息：多层膜层结构表征，成分掺杂深度，扩散，吸附等表征

• 所有元素探测– H, He, Li, etc. （H~U)
• 同位素的探测 – 2H, 3H, He, Li, 18O, 13C, etc.
• 详细的分子信息 – 有机和无机
• 分子成像 
• 平行探测–图像中每一像素点都有对应的全质谱
• 表面灵敏 – 样品表面 1-3 个原子 /分子层
• 痕量分析灵敏度高 – 0.1 到 1 ppm 原子浓度
• 快速数据采集 – 通常 1 – 15 分钟 (表面 IMS)
• 高空间分辨率
• < 70 nm （成像模式下）
• < 0.5 µm  （保持较好质量分辨率下）
•  表面物理形貌信息 
•  离子击发出的 SEI （二次电子像） < 60 nm
•  大的立体接收角 ~ 180o
• 可分析所有材料 – 导体，半导体和绝缘材料