Verios 5 XHR SEM超高分辨扫描电镜

利用亚纳米分辨率和高材料对比度进行纳米材料表征和分析。

产品详情应用实例技术参数

Verios 5 XHR SEM扫描电镜

Verios 5 XHR SEM扫描电镜采用出色的材料对比度在全 1 keV-30 keV 能量范围内提供亚纳米级分辨率。前所未有的自动化和易用性使任何经验水平的用户都能使用该性能。

使用 SmartAlign 技术时，用户无需对电子束镜筒进行任何对中，这不仅能大限度地减少维护，还能提高电镜生产率。

包括 Thermo Scientific 获得专利的 UC+（单色器）电子枪、ConstantPower 透镜和静电扫描，可实现准确稳定的成像。

Elstar Schottky 电子源单色器（UC+）FESEM 技术和性能，实现从 1 至 30 keV 的亚纳米级分辨率。

Verios 扫描电镜非常适合实验室计量应用，能够在高放大倍数下校准经 NIST 认证的标准品。

结合了先进的高灵敏度、镜筒内 & 透镜下探测器和信号过滤功能可实现低剂量操作和佳衬度选择。

低至 20 eV 也可实现用于真正的表面表征的极高分辨率。

借助 AutoScript 4 软件，可选配基于 Python 的应用程序编程界面 (API)。

可从两种高精确稳定的压电陶瓷驱动样品台中进行选择。

Verios 5 XHR SEM扫描电镜相关应用

越来越小的规模研究新型材料，以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能，旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程，可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

电子束分辨率	在 30 kV STEM 下 0.6 nm（可选）在 2-15 kV 下 0.6 nm 1 kV 时 0.7 nm 在 500 V 下 1.0 nm
标准检测器	ETD、TLD、MD、ICD、射束电流测量、Nav-Cam+、IR 摄像机
可选检测器	可选检测器 \| EDS、EBSD、RGB 阴极发光、拉曼、WDS 等
载物台偏倚（光束减速、可选）	标准配置包括高达 -4000 V
样品清洁	标配配置包括集成式等离子清洗装置
样品操纵	Verios 5 UC 5-轴电动共心载物台，配有 XYR 轴压电驱动。 XY 范围 150 x 150 mm2，70° 倾斜范围。通过门加载。	Verios 5 HP 已安装腔室，超稳定 5 轴所有压电驱动载物台。 XY 范围 100 x 100 mm2，70° 倾斜范围。通过自动负载锁加载。
腔室	379 mm 内径、21 个端口
软件选项	使用划分和拼接进行自动大面积采集的 Thermo Scientific Maps 软件；相关工作 Thermo Scientific AutoScript 4 软件；基于 Python 的应用程序编程界面图案生成软件 TopoMaps 用于图像彩色化、图像分析和 3D 表面重建